12月4日，第19次中日韩知识产权局局长会议在日本神户举行。中国国家知识产权局局长申长雨、日本特许厅长官松永明、韩国特许厅厅长朴原住出席会议。

　　会上，中日韩三局通报了各自国家知识产权工作的最新进展，并围绕外观设计、商标、复审、人力资源、三国民间知识产权机构合作和三国知识产权用户研讨会等内容进行了深入的交流，还就人工智能等新技术的发展交换了意见。三局决定，第20次中日韩知识产权局局长会议于2020年在韩国举行。会后，三局局长共同签署了《第19次中日韩三局局长会议会谈纪要》。同日下午，三局共同举办了第七届中日韩知识产权用户研讨会。申长雨、松永明、朴原住和兵库县知事井户敏三出席会议并致辞。

　　据悉，中日韩年贸易总额达7.25万亿美元，加强知识产权的合作为三国营造了良好的营商环境，为三国经济发展提供了支撑。（来源：国家知识产权局）