近期，智利政府公布了商标、专利等相关法律的改法决定，与专利相关的改法内容如下：

　　1.改法后，专利著录项变更官费须在提交转让记录请求时一并缴纳，专利局有权要求申请人进一步提供相关文件；

　　2.有关支付专利维持费的新规定；

　　3.将工业外观设计的保护期延长至 15 年；

　　4.工业外观设计提交时可选择无需实质审查的自动注册程序，但未经实审的外观设计不能提起侵权诉讼；

　　5.由于行政拖延造成的审查周期过长，申请人请求专利补充保护期限的时间自专利授权日起的6个月改为60天（工作日）；

　　6.PCT进入智利国家阶段权利恢复截止日期的变化；

　　7.增加超页费（超过80页，每增加20页加收88美元）及延迟缴纳申请官费（改法后，专利申请费应在提交申请时或自申请日起30个工作日内缴纳，逾期不缴纳视为放弃）的规定；

　　8.增加临时申请类型。