2017 年，面向日本的发明申请量比去年增加了9.5%；面向日本的实用新型的申请量比去年增加了1.8%；面向日本的外观申请量比去年增加了39%。以下为近六年来中国国籍申请人在日本的申请量统计：

　　从上述2017 年的统计来看，中国国籍的申请人面向日本的申请量很明显在增加。另外，2017 年美国国籍的申请人面向日本的商标申请件数为8789件（其中国际申请为3805件），和中国国籍申请人的本年度申请量接近。照此趋势，2018 年中国国籍的申请人面向日本的商标申请量很有可能超过美国，成为首位。关于发明的申请件数，中国国籍的申请人面向日本的发明申请件数为4172 件，而美国国籍的申请人面向日本的发明申请件数为23949 件，为中国的5.7倍，预计上述差异将逐年减少。